25,182.39
+176.23
(+0.70%)
25,098
+109
(+0.44%)
低水84
8,425.82
+61.41
(+0.73%)
4,884.23
-4.35
(-0.09%)
4,620.70億
4,068.57
-30.07
(-0.734%)
4,892.12
-22.09
(-0.450%)
15,575.13
-286.76
(-1.808%)
2,875.96
-12.29
(-0.43%)
73,424.6300
-36.1500
(-0.049%)
Enel Chile SA
  • 4.330
  • +0.040
  • (+0.932%)
  • 最高
  • 4.385
  • 最低
  • 4.270
  • 成交股數
  • 53.82萬
  • 成交金額
  • 1.08百萬
  • 前收市
  • 4.290
  • 開市
  • 4.270
  • 盤後
  • 4.330
  • 0.000
  • (0.000%)
  • 最高
  • 4.500
  • 最低
  • 4.330
  • 成交股數
  • 7.20萬
  • 成交金額
  • 9.17萬
  • 買入
  • 4.200
  • 賣出
  • 4.900
  • 市值
  • 59.34億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 1732
  • 每宗成交金額
  • 622
  • 波幅
  • 7.303%
  • 交易所
  • NYSE
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 11.33/--
  • 周息率/預期
  • 4.50%/4.50%
  • 10日股價變動
  • 1.882%
  • 風險率
  • 0.365
  • 振幅率
  • 3.402%
  • 啤打系數
  • 0.926

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 29/05/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

27/05/2026 00:44

美股動向 | SK海力士推革命性「iHBM」散熱技術

  《經濟通通訊社27日專訊》南韓記憶體巨擘SK海力士(US.HXSCL)宣布,推出具備突破性的「iHBM」控溫散熱技術。面對人工智慧晶片日益嚴苛的高溫挑戰,該技術透過在HBM封裝內部直接整合一體化冷卻元件,能大幅降低產品運作時的發熱量。

 

  有別於傳統HBM需仰賴核心晶片向外傳導的間接散熱模式,SK海力士的「iHBM」技術從封裝結構層面進行了根本性的改良。其核心在於將採用絕緣且具備高導熱性矽基材料製成的冷卻元件,直接嵌入於熱量最為密集的D2D PHY區域內。這項創新設計在記憶體內部建構一條專屬的散熱通道,成功使系統熱阻大幅下降超過30%,確保晶片在持續高溫與高負載環境下依然能維持穩定運行。(kk)

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